Nanoscribe Quantum X

Microfabbricazione senza maschera: Nanoscribe rilascia Quantum X

Nanoscribe, con sede in Germania, ha appena annunciato la versione ufficiale del dispositivo Quantum X, presentando la nuova tecnologia al LASER World of Photonics di Monaco (dal 24 al 27 giugno). Continuando nella loro missione di indirizzare gli utenti industriali impegnati in sforzi di microfabbricazione, questo lancio espande i loro sistemi di produzione additiva per progetti di nanoscala e microscala.

Il team di sviluppo Nanoscribe ha creato Quantum X appositamente per micro-ottiche ad alta precisione, offrendo una potente combinazione con la litografia in scala di grigi e la tecnologia di polimerizzazione a due fotoni.

“Quantum X offre una soluzione di litografia senza maschera più flessibile, semplice ed economica per vari casi d’uso”, riporta Nanoscribe nel suo ultimo comunicato stampa inviato a 3DPrint.com. “All’interno del suo alloggiamento compatto, vengono prodotti prototipi di microottici rifrattivi e diffrattivi, nonché master di polimeri. Il sistema presenta un fattore di forma industriale con interfacce intuitive e pronte all’uso per il controllo del processo. “

Nanoscribe ha creato questa nuova tecnologia in risposta alla forte domanda di produzione in applicazioni come:

sensori
Dispositivi mobili
Dati
Telecomunicazioni

Quantum X è il nuovo sistema di litografia senza maschera di Nanoscribe per la fabbricazione di micro-ottiche rifrattive e diffrattive con la massima precisione.

Il lavoro di microfabbricazione può essere completato rapidamente e con precisione, facendo affidamento su tre telecamere per il monitoraggio in tempo reale e il controllo del processo. Gli utenti possono aspettarsi vantaggi come uno sviluppo più rapido, cicli di iterazione della progettazione più brevi, maggiore accessibilità, produzione rapida e un processo di stampa più conveniente in generale. Quasi qualsiasi forma 2.5D può essere creata sulla microscala, un’impresa in cui gli stati di Nanoscribe erano in precedenza impossibili, ora ‘aprendo la strada a elementi ottici nuovi o fortemente potenziati dall’imaging, dall’illuminazione al rilevamento’.

Gli elementi ottici diffrattivi multilivello (DOE) vengono prodotti in un piano di scansione, in quanto la potenza del laser viene modulata, ottenendo eccellenti capacità di modellazione per una fabbricazione più efficiente di:

Singoli elementi ottici
Lenti sferiche e asferiche
Array con fattori di riempimento elevati fino al 100 percento
“Gli sviluppatori di Quantum X hanno compiuto grandi sforzi per eccellere nelle interazioni utente-macchina avanzate”, afferma il team Nanoscribe.

Un touchscreen è integrato per monitorare i lavori, regolare i parametri e vedere la stampa in tempo reale, insieme a una procedura guidata che guida gli utenti lungo l’intero ciclo di un lavoro di stampa. Il software accetterà immagini di progetti ottici con risoluzione fino a 32 bit come BMP, PNG o TIFF. In ogni campo di scansione è possibile un’ampia gamma di altezze e le topografie quasi continue possono essere realizzate in un unico passaggio. L’approccio AM consente agli utenti di espandersi oltre i tradizionali limiti di altezza, velocità e risoluzione.

“Il processo di fabbricazione con Quantum X consente un’ampia gamma di substrati, compresi quelli trasparenti e opachi, che accettano dimensioni di wafer fino a sei pollici. Lavorare con questo nuovo dispositivo evita la costosa fabbricazione di maschere, spin-coating e pre- o post-cottura quando viene utilizzato con le fotoresine Nanoscribe. Questi materiali in resina sono facili da maneggiare, consentono elevati rapporti di aspetto e consentono strutture elevate, avvicinandosi ai limiti del possibile fisicamente “, afferma Nanoscribe.

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